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CVD(化学気相成長)について
CVD(化学気相成長)は、原料ガスを反応炉内で化学反応させ、基板表面に薄膜を堆積させる技術です。気相中の化学反応を利用するため、複雑な形状の基板にも均一で密着性の高い膜を形成できるのが特徴です。代表的な方法には、熱エネルギーを用いる熱CVD、プラズマを用いるPECVD(プラズマCVD)、光エネルギーを用いる光CVDなどがあります。これらの技術は、半導体デバイス製造における絶縁膜や導電膜、光学部品の反射防止膜、工具の耐摩耗コーティング、太陽電池の発電層など、多岐にわたる分野で高機能材料の創製に不可欠なプロセスとして広く活用されています。
