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真空蒸着について
真空蒸着は、高真空中で材料を加熱・蒸発させ、その蒸気を基材表面に堆積させる物理気相成長(PVD)法の一種です。抵抗加熱や電子ビーム加熱などにより蒸発源を気化させ、原子・分子レベルで薄膜を形成します。この技術は、金属、酸化物、窒化物など多様な材料に対応し、高純度で均一な膜を精密に制御して成膜できる点が特徴です。主な用途としては、光学レンズの反射防止膜やフィルター、装飾品の金属光沢付与、半導体デバイスの電極や配線、食品包装材のガスバリア膜などが挙げられます。密着性や膜厚制御性に優れ、幅広い産業分野で不可欠な表面改質技術として活用されています。
