Danh mục thiết bị làm sạch wafer chuyên dụng trong quy trình sản xuất bán dẫn. Bao gồm các thiết bị làm sạch chuyên dụng để loại bỏ chất ô nhiễm bề mặt, hạt bụi, chất hữu cơ và tạp chất kim loại trên wafer silicon. Đối tượng là các hệ thống làm sạch hóa học như thiết bị làm sạch RCA, thiết bị làm sạch megasonic, thiết bị làm sạch quay, thiết bị làm sạch đơn tấm, thiết bị làm sạch theo lô, thiết bị làm sạch SPM, thiết bị làm sạch DHF. Được thiết kế để sử dụng trong môi trường phòng sạch, là thiết bị không thể thiếu để đảm bảo chất lượng trong quy trình tiền xử lý và hậu xử lý sản xuất bán dẫn, được phân biệt rõ ràng với thiết bị etching và thiết bị CVD.